९९.७% एल्युमिना वेफर पोलिश प्लेट

Chemshun ९९.७%Al2O3 एल्युमिना सब्सट्रेट उच्च शुद्धता सामग्रीको रूपमा र ठूलो आकारको नयाँ सामग्रीको रूपमा, यसमा उत्कृष्ट भौतिक गुणहरू र स्थिर रासायनिक वर्णहरू छन्, अन्य सामग्रीहरूको तुलनामा राम्रो मूल्य। उच्च शुद्धता एल्युमिना सधैं विश्वव्यापी शीर्ष अनुसन्धान र उन्नत सिरेमिक र उत्कृष्ट सिरेमिक कारखानाहरू द्वारा विकास गर्न जारी छ।

रासायनिक मेकानिकल पालिसिङको लागि ९९.७% एल्युमिना वेफर पालिसिङ प्लेट। CMP रासायनिक मेकानिकल पालिसिङ प्रक्रियाको एक महत्त्वपूर्ण घटकको रूपमा। CMP अर्धचालकहरूको नीलमणि र वेफर उत्पादन प्रक्रियाको लागि आवश्यक छ।

केमशुन सिरेमिक्सको उच्च शुद्धता ९९.७% एल्युमिना सिरेमिक्स नीलमणि पालिसिङ र ल्यापिङ प्लेटहरू, डिस्कलाई PIBM उत्पादन प्रक्रियाको रूपमा आकार दिइएको छ। यो एक आन्तरिक उन्नत प्रविधि हो। PIBM ले ठूलो आकारको एल्युमिना सिरेमिक्सको दरार र विकृतिको प्रमुख समस्या समाधान गर्न सफल भयो। PIBM प्रविधिले राम्रो सिरेमिक्सको अर्को झ्याल खोल्नेछ।